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光清洗燈

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最后更新: 2021-04-17
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  • 適用范圍:
  • 詳細(xì)描述:光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì),經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。更詳盡的講:UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波,具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力, 并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子,這就是所謂光敏作用??諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光 同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體:二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時,使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送,上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多,其表面水接觸愈小,成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中,需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片制作過程中,要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作過程中,除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外,目前制程的主流是,使用Excimer Lamp,其172nm波長紫外線的高反應(yīng)性質(zhì)對玻璃的清洗效率更好。
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